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产品详情： 多功能磁控溅射仪（高真空磁控溅射仪）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。 .

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产品详情： 鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称：鹏城半导体）研发设计制造了热丝cvd金刚石设备（hfcvd热丝法化学气相沉积设备），分为实验型设备和生产型设备两类。 设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜等。 可用于生产制造领域污水处理用.

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产品详情： 分子束外延薄膜生长设备（mbe)（分子束外延mbe）该设备可以在某些衬底上实现外延生长工艺，实现分子自组装、超晶格、jz阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。 分子束外延薄膜生长设备在薄膜外延生长时具有的真空环境，是在理想的环境下进行薄膜外延生长，它可.

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产品详情： 高真空电子束蒸发镀膜机（pvd真空镀膜设备）是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。 可用于生产、科学实验及教学，可根据用户要求专门订制.

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产品详情： 高真空电阻热蒸发镀膜机（pvd真空镀膜设备）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件.

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产品详情： pecvd设备（等离子体增加强化学气相沉积pecvd）主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。 设备用途和功能特点 1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积pecvd薄膜设备，.

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产品详情： 小型lpcvd设备（低压化学气相沉积设备）简介 lpcvd是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是si3n4、sio2及poly硅薄膜）。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造。 设备结构及特点 1、小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成.

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产品详情： 材料的输运采取了超纯的气路系统，源的切换和输入采用了多路组合阀进气技术。由于组合阀具有极小的死空间，使得源的残留量非常少，有利于生长具有陡峭界面的材料。 采用压差控制技术控制组合阀的旁路和主路之间的压力，降低了源的压力和浓度波动，有利于材料生长的重复性和稳定性。 采用了管道镶.

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产品详情： 苏州哥尔达机械设备有限公司 戴先生：手机： 座机： 地址：苏州市吴中区郭巷镇九盛路333号 网站：geed-sz 平面往复喷涂线 适合配件：电视机、音响、鼠标、电脑键盘、笔记本外壳、热水壶 喷涂方式：多关节机械手、往复机、手动喷涂（可停住喷、可***喷） 烘烤方式“ 隧道烤炉/箱式强制烤炉.

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产品详情： 苏州哥尔达机械设备有限公司 戴先生：手机： 座机： 地址：苏州市吴中区郭巷镇九盛路333号 网站：geed-sz 迄今为止，哥尔达机械已经为上千家企业提供此类全自动浸塑流水线，我们毫无意外站在了行业的***，浸涂烘干全自动流水线作业，用人少，适合批量连续生产，产量高、涂层面均匀；全封闭无人.

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产品详情： 苏州哥尔达机械设备有限公司 戴先生：手机： 座机： 地址：苏州市吴中区郭巷镇九盛路333号 网站：geed-sz 隧道炉 1. 炉内采用电加热管或远红外线石英加热管等加热元件对物料进行加热烘烤, 独立加热温区，一个冷却温区，循环风设计，内部各点温度均匀一致; 2. 采用微pid微电脑温控.

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产品详情： 苏州哥尔达机械设备有限公司 戴先生：手机： 座机： 地址：苏州市吴中区郭巷镇九盛路333号 网站：geed-sz 苏州哥尔达机械设备有限公司专业从事喷涂设备，涂装设备，喷漆设备，自动喷涂设备，自动喷漆设备，烘干设备，烤漆设备，输送设备，流水线，装配生产线，喷涂废气处理设备，喷涂废水处理设备、.

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