脉冲激光沉积装置报价-脉冲激光沉积装置-沈阳鹏程真空技术公司

pld450型脉冲激光镀膜介绍

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技术指标：

-真空度：≤6.7×10 pa　　

恢复真空时间：从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7pa.l/s；　　

真空室：ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，

流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）

脉冲激光沉积选件介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——生产、销售脉冲激光沉积，我们公司坚持用户为-，想用户之所想，急用户之所急，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以求生存，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创。

连续组成扩展(ccs )

常规沉积条件下的组合合成

组合合成是一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(ccs) 方法。pld-ccs 系统能以连续的方式改变材料，没有-使用掩模。可以在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，脉冲激光沉积装置报价，快速连续沉积每一种组份，其结果是基本等同于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。