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光学护睛罩防雾处理在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较-的技术,如离子辅助沉积可在室温下进行。工艺不但生产比常规镀膜工艺具有-物理特性的护睛罩防雾处理,而且可以应用于塑料制成的基底。
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因此也不具有-的能量势垒,头盔镜防雾处理加工厂,以是化学镀件前处置需求得到比护睛罩防雾处理件越发清洁、愈加具有平均活性的内中。因而,化学镀镀前处置工作尤为事多,贵州头盔镜防雾处理,它事多影响着镀液听命、镀层拆散力和镀层风致。
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两个电子枪源位于基板两边,周围是环形罩并被挡板覆盖。离子源位于中间,光控窗口在离子源的前方。图19.13示出真空室的顶部,真空室里有含6个圆形夹具的行星系统。夹具用于放置被镀膜的光学元件。
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