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清洗灯-sen清洗灯suv110us -京都玉崎株式会社

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    2020-6-10

王城
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提供日本sen日森、紫外线uv灯管suv90us-88光清洗、改质

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使用紫外线清洗时要注意以下几个方面:(1) 污垢中的无极成分或处理后的灰分会残留在物体表面,因此需要采用相应的办法进一步清除,如加装真空除尘或与超声波干洗配套使用。(2)处理时,当清洗对象表面与照射光源距离稍远时,产生的臭氧会自动分解失去作用,一定要注意清洗表面与光源的距离,也就是注意平台或传送带上工件的高度或厚度。(3)这种处理方法要求紫外线能透过清洗对象表面,对有立体结构的清洗对象不太适合,只能清洗表面结构的物体。(4)由于需防止臭氧扩散对人体造成损害,需要在封闭装置中进行清洗。(5)由于臭氧是通-化反应去除污垢的,所以容易被氧化的表面不能用这种方法处理。

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紫外线uv清洗原理:

其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有-的能量,sen清洗灯suv110us ,高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,sen清洗灯euv200uh,并且可以在吸收185nm波长后分解成离子,流离态原子,受激分子和中子等,这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后,会产生臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水和-等易挥发气体,从被照射物表面飘逸出,清除物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。













一:

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二:

清洗法有干洗和湿洗两种。干洗有uv臭氧清洗,等离子清洗,离子清洗等。湿洗有水洗,碱清洗,sen清洗灯suv110uh ,酸清洗,液体喷射清洗等。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点。但是也会有清洗不掉的污染。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留,因此对于高精密来说也是个污染。

与此相反uv紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染,却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术(以下简称uv臭氧清洗)。在纳米技术里,我们虽然看不到有机性污染,但是有机污染在表面形成膜(软接着层)如果在这层膜上印刷的话,就会出现鲜度恶化以及-等障碍。uv臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等。




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