无论是对于co2激光,采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜,采用锗、-作为输出窗口和透射光学元件材料,还是对于yag激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料,都不能达到全反射镜的99%以上要求。不同应用时输出镜有不同透过率的要求,因此必须采用光学镀膜方法。对于co2激光灯中红外线波段,常用的镀膜材料有-钇、-镨、锗等;对于yag激光灯近红外波段或可见光波段,常用的镀膜材料有-锌、-镁、二氧化钛、氧化-等。除了高反膜、增透膜之外,还可以镀对某波长增反射、对另-长增透射的特殊膜,处理镀钛厂家价格,如激光倍频技术中的分光膜等。影响一面平面透镜的透光度有许多成因。 次数用完api key 超过次数-
真空镀膜室壁上单分子层所吸附的分子数ns与气相中分子数n的比值近似值。通常在常用的高真空系统中,其内表面上所吸附的单层分子数,远-过气相中的分子数。因此,除了蒸发源在蒸镀过程中所释放的气体外,在密封和抽气系统性能均-和清洁的真空系统中,若气压处于10-4pa时,从真空室壁表面上解吸出来的气体分子就是真空系统内的主要气体来源。真空下室壁单分子层所吸附的分子数与气相分子数之比分子数与气相分子数a-镀膜室的内表面积,cm2;v-镀膜室的容积,cm3;ns-单分子层内吸附分子数,个/cm2;n-气相分子数,个/cm3 次数用完api key 超过次数-
气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。(二)蒸发源将镀料加热到蒸发温度并使之气化,这种加热装置称为蒸发源。zui常用的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源,特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、辐射加热、激光加热蒸发源等。(三)真空蒸镀工艺实例以塑料金属化为例,真空蒸镀工艺包括:镀前处理、镀膜及后处理。真空蒸镀的基本工艺过程如下:(1)镀前处理,包括清洗镀件和预处理。具体清洗方法有清洗剂清洗、化学溶剂清洗、超声波清洗和离子轰击清洗等。 次数用完api key 超过次数-
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