掩膜（mask）就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版，制版，在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。优势是：程序流程-、低成本。缺陷：大批量规定大，每一次改动程序流程就必须再次做光呆板，不一样程序流程不可以一起生产制造，交货期长。
选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，制版厂家，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。
光掩膜上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业，下游主要包括ic制造、ic封装、平面显示和印制线路板等行业，应用于主流消费电子 （手机、平板、可穿戴设备）、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、led 照明、物联网、电子等终端产品。
目前全球范围内光刻掩膜版主要以生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由-生产商进行生产。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，制版报价，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过-过程将图形信息转移到产品基片上。
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