等离子化学气相沉积设备-沈阳鹏程(商家)

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化学气相沉积法在金属材料方面的使用 想要了解更多化学气相沉积的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。 钯的化学气相沉积pd 及其合金对氢气有着极强的吸附作用以及-的选择渗透性能，是一种存储或者净-气的理想材料。对于pd 的使用大多是将钯合金或是钯镀层生产氢净化设备 。也有些学者使用化学气相沉积法将钯制成薄膜或薄层。具体做法是使用分解温度极低的金属有机化合物当做制备钯的材料，具体包括：-pd（η-c3h5） （η-c5h5）以及 pd（η-c3h5）（cf3cochcocf3）之类的材料，使用这种方式能够制取出纯度-的钯薄膜。 等离子体化学气相沉积原理及特点 原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，基体浸没在等离子体中或放置在等离子体下方，吸附在基体表面的反应粒子受高能电子轰击，结合键断裂成为活性粒子，化学反应生成固态膜。沉积时，基体可加热，亦可不加热。工艺过程包括气体放电、等离子体输运，气态物质激发及化学反应等。主要工艺参数有：放电功率、基体温度、反应压力及源气体成分。主要特点是可-降低反应温度，已用于多种薄膜材料的制备。 以上就是为大家介绍的全部内容，等离子化学气相沉积设备，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多化学气相沉积的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。 pcvd工艺的具体流程 pcvd工艺的具体流程如下： (1)沉积。沉积过程借助低压等离子体使流进高纯度石英玻璃沉积管内的气态卤化物和氧气在1000℃以上的高温条件下直接沉积成设计要求的光纤芯中玻璃的组成成分。 (2)熔缩。沿管子方向往返移动的石墨电阻炉对小断旋转的管子加热到大约2200℃，在表面张力的作用下，分阶段将沉积好的石英管熔缩成一根实心棒(预制棒)。 (3)套棒。为获得光纤芯层与包层材料的适当比例，将熔缩后的石英棒套入一根截面积经过-挑选的管子中，这样装配后即可进行拉丝。 (4)拉丝。套棒被安装在拉丝塔的顶部，下端缓缓放入约2100℃的高温炉中，等离子化学气相沉积设备公司，此端熔化后被拉成所需包层直径的光纤(通常为125 cm)，等离子化学气相沉积设备报价，并进行双层涂覆和紫外固化。 (5)光纤测试。拉出的光纤要经过各种试，以确定光纤的几何、光学和机械性能。 以上就是关于化学气相沉积的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！ 等离子化学气相沉积设备-沈阳鹏程(商家)由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司是从事“电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供-的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：董顺。
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