显影工艺一般步骤如下：预喷淋（pre-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水（deionizedwater，diw）。显影喷淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：e2喷嘴，ld喷嘴，保温杯-显影厂家，gp喷嘴，mgp喷嘴等。显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
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-显影这是一个-的-参数，-能量过高可能会导致后烘烤过程中显影不干净和物理性能下降。-能量太低会在显影过程中引起侧面腐蚀。
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