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应该储存在密封的塑料瓶里。
在水中溶解hf(-氢)。用来雕刻玻璃,清洗铸件上的残砂,控制发酵,电抛光,清洗腐蚀半导体硅片(与hno3混酸)。由于氢原子与氟原子之间的结合能力较强,使-无法在水中完全电离。
-可以溶解许多其他酸不能溶解的玻璃(主要成分:二氧化硅)。产生气体的反应方程如下:
sio2(s)+4hf(aq)=sif4(g)↑+2h2o(l)
产生的sif4可以继续和过量的hf产生-:
sif4(g)+2hf(aq)=h2[sif6](aq),-是二元强酸。
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正因为如此,它必须储存在塑料(理论上,放在聚四氟乙烯制成的容器中)、蜡或-成的容器中。-没有还原性。如果你想长期储存,你不仅需要一个密封容器,还需要尽可能排出容器中的空气。
(可以腐蚀玻璃)与硅和硅化合物反应产生气态,但不会腐蚀塑料,石蜡,铅,清远99%-,金,铂。可以和水和-混合使用。市场上销售的-溶质分数为40%,水处理99%-价格,相当于22.5毫升/升。-的35.35%是共沸混合物。毒性致死量为25毫克/公斤。具有腐蚀性,-腐蚀金属、玻璃和含硅物体。例如,吸入蒸汽或接触皮肤会导致更难愈合的-。
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工业用氟加热至500℃进行热分解,或用萤石(-钙caf2)和加热至700℃制备-。
-法将干燥的萤石粉与-按比例1:(1.2~1.3)混合,送入旋转反应炉进行反应,炉内气相温度控制在280℃±10℃。反应性气体进入粗馏塔,除去大部分-、水分和萤石粉,塔的温度控制在100~110℃,塔的顶部温度控制在35~40℃。粗-氢气体通过脱气塔凝结成液体,塔的温度控制在20~23℃,塔的顶部温度控制在-8℃±1℃,然后进入精馏塔进行精馏,塔的顶部温度控制在30~40℃,塔的顶部温度控制在19.6℃±0.5℃。
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精制后的-氢用水被吸收,即得到氢氟产品。
这种收集到的-氢通常含有水、硅和-合物。此后,-氢可通过蒸馏等方法进行净化。
-和萤石(主要成分是-钙caf2)也可以反应制备:caf2+2hcl=cacl2+2hf。工业级-工业级-,冷凝分离去除杂质,通过微孔滤膜过滤去除灰尘颗粒,制成无色透明的电子级-。氟和氢混合后立即,产生-氢。f2(g)+h2(g)=2hf(g)事实上,-在水溶液中有两种平衡:hf=h+f-k1=7.2×10-4。hf+f-=hf2-k2=5.2。
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随着浓度的增加(超过5毫升),hf已经是相当强的酸了。
-溶解氧化物的能力在铝和-的纯化中起着重要作用。-也用于蚀刻玻璃,可以雕刻图案,标记刻度和文字的半导体工业用于去除硅表面的氧化物,在炼油厂用于异-和正-化反应的催化剂,在去除不锈钢表面的氧杂质的浸泡过程中也用于-。-也用于许多含氟有机物的合成,如teflon(聚四氟乙烯)和氟利昂等制冷剂。
-和熔化-可用于去除微丝表面的玻璃涂层,室温下去除厚度为10μm的玻璃涂层的时间约为150s,熔化-约为10s的玻璃成分和结构是影响玻璃涂层纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。
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采用熔融纺丝法制备了玻璃涂层纯铜微丝,对微丝表面玻璃涂层的去除进行了实验研究,评价了微丝在-和熔融-中的腐蚀行为,分析了玻璃涂层纯铜微丝在强酸和强碱中的耐腐蚀性,探讨了其腐蚀机理。
对皮肤有很强的-性和腐蚀性。-中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用,氟是活跃的非金属元素之一。接触-后,氟离子不断分离并渗透到深层组织中,溶解细胞膜,导致表皮、-、皮下组织甚至皮层液化坏死。
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-hydrofluoricacid)是ofluoricacid)是一种水溶液,具有清澈、无色、-的腐蚀性液体,99%-生产厂家,具有-的-性气味。氢氟是一种弱酸,具有很强的腐蚀性,对金属、玻璃和含硅物体有很强的腐蚀作用。例如,吸入蒸汽或接触皮肤会引起难以的。实验室通常使用萤石(主要成分是-钙)和,需要密封在塑料瓶中,并保存在阴凉处。
氟对衣物、皮肤、眼睛、呼吸道、-道粘膜都有-、腐蚀作用,氟离子进入-或组织后可与钙镁离子结合,使之成为不溶或微溶的-钙和-镁。
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量大时可直接堵塞血管,直接或间接影响系统和系统的功能,引起低血钙、低血镁综合征,氟离子还可与-白结合形成氟血红素,抑制-脱氢酶,降低致氧合作用,影响细胞呼吸功能。另外,-可引起接触部位明显,使组织蛋白脱水溶解,可迅速渗透角质层,渗透深层组织,溶解细胞膜,引起组织液化,重者可深入骨膜和骨骼,使骨骼成为-钙,形成愈合缓慢的-。吸入高浓度蒸汽或经皮吸收可引起化性。
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市场上常见的浓度:溶质分数40%,兰太99%-价格,工业级;分数40%,电子级。对毒物造成高度危害。浓度为1.18g/cm3。
随着hf溶液分数的提高,对碳钢的腐蚀上升后下降。
当浓度较低时,由于氢键的形成具有弱酸性,但当浓度较高时(5毫升/升以上)会发生自偶电离。此时,-是一种酸性很强的酸。
液态-氢是一种酸性很强的酸,酸度相当于,但比-弱。腐蚀性强,-损害牙齿和骨骼。硅化合物腐蚀性强。
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