nr26 25000p光刻胶哪里有-北京赛米莱德

20．有没有光刻胶pc3-6000的资料吗？

a pc3-6000并不是光刻胶，它是用在chip

on glass 上的胶粘剂。

21．是否有wax替代品？

a pc3-6000可替代wax做晶片和玻璃的固定，比较容易去除掉。

22．贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料？

a 有，ic1-200就是

23．请问是否有不用hmds步骤的正性光刻胶？

a 美国futurrex 整个系列的光刻胶都不需要hmds步骤，都可以简化。

24．一般电话咨询光刻胶，我们应该向客户咨询哪些资料？

a 1 需要知道要涂在什么材质上，2

还有要知道需要做的膜厚，nr26 25000p光刻胶报价，3

还要知道光刻胶的分辨率

4还有需要正胶还是负胶，5

需要国产还是进口的

27．想找一款膜厚在120um，的光刻胶，有什么光刻胶可以做到啊！

a 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到futurrex

nr21-20000p ，。

28．有没有了解一款美国futurrex

nr9-250p的光刻胶，请教下？

a 这是一款负性光刻胶，nr26 25000p光刻胶哪里有，湿法蚀刻使用的，nr26 25000p光刻胶，附着力-，耐100度的温度，国内也有可以代理的公司，futurre

光刻胶是第4大的电子化学品制造商，在光刻胶的领域有着-的声誉，nr26 25000p光刻胶厂家，在太阳能光伏，和led半导体行业都有-的市场占有率。

29．想找款膜厚的产品，进行蚀刻，有什么好？

a 厚膜应用（thick

film applicati），主要是指高纵横比（aspect

ratios），高分辨率，高反差，有几款产品向你一下

的光刻

四、前烘（soft bake）

完成光刻胶的涂抹之后，需要进行软烘干操作，这一步骤也被称为前烘。前烘能够蒸发光刻胶中的溶剂溶剂、能使涂覆的光刻胶更薄。

在液态的光刻胶中，溶剂成分占65％－85％。虽然在甩胶之后，液态的光刻胶已经成为固态的薄膜，但仍有10％－30％的溶剂，容易沾污灰尘。通过在较高温度下进行烘培，可以使溶剂从光刻胶中挥发出来（前烘后溶剂含量降至5％左右），从而降低了灰尘的沾污。同时，这一步骤还可以减轻因高速旋转形成的薄膜应力，从而提高光刻胶 衬底上的附着性。

在前烘过程中，由于溶剂挥发，光刻胶厚度也会减薄，一般减薄的幅度为10％－20％左右。