真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，化学气相沉积设备价格，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，化学气相沉积设备，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，有机金属化学气相沉积设备，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
膜层的特点：具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、-的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致，大幅度提高工件的外观装饰性能。在真空室中利用弧光（或辉光）放电所产生的能量将靶材（钛等金属或合金）直接蒸发（或溅射）离化生成金属离子，并通过电场进行加速与反应气体生成金属化合物，沉积在工件表面.其可以在产品表面镀覆金黄色、黄铜色、香槟色、银白色、黑色、玫瑰色、古铜色、咖啡色、紫铜色、褐色、深黑色等多种美观-的装饰膜。
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