金属真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要-半导体产业发展的应用技术研究,-重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。
同传统电磁式和可控硅技术制作的电弧电源相比较,高频逆变电弧电源主要具有以下特点:
1. 体积缩小,仅是旧式电源的几分之一;相应的电源重量也 仅是传统电源的几分之一到十几分之一。
2.电源效率明显提高,比旧式电源的效率大约提高20%∽30%左右。
3.操作轻便,电-节精度较高,稳流性能好,有利于控制膜厚及-膜厚的重复性。
4. 采用高频逆变方式的电弧电源纹波较小,加上其响应速度远远高于旧式电源,在相同弧源和工作条件下,使用高频逆变电弧电源有利于提高电弧的稳定性,减少灭弧次数。
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近年来在-得到了迅速的发展。离子镀的基本原理是借助一种惰性气体的辉光或弧光放电使金属或合金蒸汽离子化。离子镀包括镀膜材料(如tin、tic)的受热、蒸发、沉积过程。蒸发的镀膜材料原子在经过辉光区时,一小部分发生电离,并在电场的作用下飞向工件,以几千电子伏的能量射到工件表面上,金属真空镀膜厂家,可以打入基体约几纳米的-,从而-提高了涂层的结合力,而未经电离的蒸发材料原子直接在工件上沉积成膜。惰性气体离子与镀膜材料离子在工件表面上发生的溅射,金属真空镀膜实验室,还可以清除工件表面的污染物,从而-结合力。
离子真空镀膜机和蒸发镀膜机和磁控溅射镀膜机采用的技术是各不相同的,这几种镀膜技术原理也各具优势,可根据其镀膜工件和膜层选择不同的镀膜方式,从而达到市场需求。
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对经过清洗处理的清洁表面,金属真空镀膜加工,不能在-环境中存放,要用封闭容器或保洁柜贮存,以减小灰尘的沾污。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底,可使碳氢化合物蒸气的吸附减至。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面,一般应贮存在真空干燥箱中。
清除镀膜室内的灰尘,设置清洁度高的工作间,保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度大的地区,除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外,还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内,注意油扩散泵返油,对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。
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