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电子工程用高纯---市场未来五年内投资战略研究报告2018-2024

电子工程用高纯---市场未来五年内投资战略研究报告2018-2024

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  报告编号175789
  出版时间:2018年10月
  出版机构:中信博研研究院
  报告价格:印刷版6500元 电子版6800元 印刷版+电子版7000元
  交付方式:emil电子版或特快专递
  在线联系:q q 1637304074 ; 2509806151
  联 系 人:雷丹 张熙玲
  订购热线: 010-56019556 010-84953789
  手机微信同步: (周一至周五18:00以后,周六日及法定节假日全天)
  免费售后服务一年,具体内容及订购流程欢迎咨询人员。http://www.zxbyyjy.com/a/huagong/175789.html
 
  第ⅰ章 半导体、光伏产业用高纯-概述 16
  1.1 高纯-简介 16
  1.2 高纯-的主要基本性能与指标 17
  1.3 高纯-的主要应用领域 18
  1.4 高纯-在发展我国电子工业中的重要作用 19
  第二章 电子特种气体及其应用市场 20
  2.1 电子特种气体概述 20
  2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面 21
  2.3 电子特种气体的纯净度要求 23
  2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题 25
  2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题 25
  2.4.2 气体配送及供应问题 26
  2.4.3 储存、使用中的安全性问题 27
  2.4.4 成本性问题 28
  2.5 -外电子特种气体行业发展概述 29
  2.5.1 -电子特种气体生产与市场情况 29
  2.5.2 -电子特种气体行业及其发展 30
  第三章 高纯-气体性能指标及制备、净化的工艺路线 33
  3.1 高纯-的性能指标 33
  3.2 高纯-工业化制备的典型工艺路线 34
  3.2.1 制备工艺法概述 34
  3.2.2 -合金法制备- 34
  3.2.2.1 工艺过程 34
  3.2.2.2 主要反应 36
  3.2.2.3 工艺特点 36
  3.2.2.4 工艺法存在的问题 37
  3.2.3 -氢硅还原法制备- 37
  3.2.3.1 工艺过程 37
  3.2.3.2 主要反应 39
  3.2.3.3 工艺特点 39
  3.2.3.4 工艺法存在的问题 40
  3.2.4 四-硅还原法制备- 41
  3.2.4.1 工艺过程 41
  3.2.4.2 主要反应 41
  3.2.4.3 工艺特点 41
  3.2.4.4 工艺法存在的问题 42
  3.2.5 氯-歧化法制备- 42
  3.2.5.1 工艺过程 42
  3.2.5.2 主要反应 42
  3.2.5.3 工艺特点 42
  3.2.5.4 工艺法存在的问题 43
  3.2.6 烷--歧化法 43
  3.2.6.1 工艺过程 43
  3.2.6.2 主要反应 44
  3.2.6.3 工艺特点 44
  3.2.6.4 工艺法存在的问题 44
  3.3 高纯-气体的净化工艺路线 45
  3.3.1 气体的净化方法概述 45
  3.3.2 高纯-的净化过程 45
  3.4 工业高纯-气体的包装及贮运 46
  第四章 -外高纯-生产与主要企业现况 47
  4.1 -高纯-产销、市场规模的概况 47
  4.2 国外高纯-主要生产企业产销情况 47
  4.3 国外高纯-主要生产企业简况 48
  4.3.1 rec silicon公司 48
  4.3.2 dowcorning公司 51
  4.3.3 sodiff新素材有限公司 54
  4.3.4 memc公司 57
  4.3.5 air liquid公司 60
  4.3.6 日本电气工业公司 64
  4.3.7 大阳日酸公司 67
  4.3.8 evonik industries公司 70
  4.4 --业的发展概述 72
  4.4.1 我国高纯-业发展的概述 72
  4.4.2 我国-研发、生产的历史 74
  4.5 -高纯-生产企业现况 75
  4.5.1 -高纯-生产企业总述 75
  4.5.2 浙江中宁硅业有限公司 75
  4.5.3 浙江赛林硅业有限公司 81
  4.5.4 滁州市硅谷特种气体有限公司 88
  4.5.5 六九硅业有限公司 95
  4.5.6 浙江金华美晶硅电子有限公司 102
  4.5.7 黑龙江金业电子气体股份有限公司 108
  4.5.8 深圳市金业长健新材料股份有限公司 115
  第五章 高纯-主要应用领域的概述 122
  5.1 高纯-在集成电路中的应用 122
  5.1.1 集成电路芯片制程 122
  5.1.2 化学气相沉积和气体应用 122
  5.1.3 高纯-在化学气相沉积中作为气源形成的薄膜 131
  5.2 高纯-在薄膜硅太阳电池中的应用 132
  5.2.1 非晶硅薄膜太阳能电池 132
  5.2.2 si薄膜的材料特性 132
  5.2.3 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯-其应用 136
  5.3 高纯-在液晶显示器中的应用 138
  5.3 高纯-在液晶显示器中的应用 139
  5.4 高纯-在其它领域的应用 139
  5.4.1 在特种玻璃制造中的应用 139
  5.4.2 在电子部件制造中的应用 140
  5.4.3 在化合物半导体材料制造中的应用 140
  5.5 高纯-在电子信息产品中应用市场需求量的- 141
  第六章 高纯-主要应用市场之一—集成电路产业的现况与趋势 143
  6.1 -半导体硅片生产与市场发展 143
  6.1.1 -半导体生产的现况 143
  6.1.2 -半导体硅片的生产状况 145
  6.2 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展 145
  6.2.1 我国集成电路市场、产业发展现状 145
  6.2.2 我国集成电路晶圆制造业情况 153
  第七章 高纯-主要应用市场之二 —薄膜太阳能电池产业的现况与趋势 154
  7.1 -外光伏产业的发展 154
  7.1.1 -光伏产业的快速发展 154
  7.1.2 我国光伏产业发展环境与现况 155
  7.2 薄膜太阳能电池的生产与市场 163
  7.2.1 薄膜太阳能电池特点及品种 163
  7.2.2 薄膜太阳能电池未来市场发展前景 171
  7.2.3 薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化 174
  7.3 -外薄膜太阳能电池的主要生产企业 175
  第八章 高纯-主要应用市场之三 —液晶显示器产业的现况与趋势 180
  8.1 -平板显示器产业发展现况 180
  8.2 我国平板显示器产业现况与未来发展预测 181
  8.2.1 我国液晶显示产业发展概述 181
  8.2.2 我国lcd面板生产现况与未来几年发展预测 183
  8.2.3 我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析 185
 
 
  图表目录
  图表 1 -性能比较 18
  图表 2 气体按其特性分类图 21
  图表 3 杂质对硅低温选择性外延沉积的影响 24
  图表 4 -与集成度的关系 25
  图表 5 微粒直径与集成度的关系 25
  图表 6 特殊气体供应流程图 27
  图表 7 -的性能指标 33
  图表 8 氢化锂还原-氢硅制备-工艺流程图 38
  图表 9 2016-2018年9月-高纯-产销分析 47
  图表 10 2016-2018年9月-高纯-市场规模分析 47
  图表 11 2017年国外高纯-主要生产企业产销情况 47
  图表 12 近4年rec silicon公司 流动资产周转次数变化情况 48
  图表 13 近4年rec silicon公司 总资产周转次数变化情况 49
  图表 14 近4年rec silicon公司 销售毛利率变化情况 49
  图表 15 近4年rec silicon公司 资产负债率变化情况 49
  图表 16 近4年rec silicon公司 产权比率变化情况 50
  图表 17 近4年rec silicon公司 固定资产周转次数情况 50
  图表 18 近4年dowcorning公司流动资产周转次数变化情况 52
  图表 19 近4年dowcorning公司总资产周转次数变化情况 52
  图表 20 近4年dowcorning公司销售毛利率变化情况 52
  图表 21 近4年dowcorning公司资产负债率变化情况 53
  图表 22 近4年dowcorning公司产权比率变化情况 53
  图表 23 近4年dowcorning公司固定资产周转次数情况 54
  图表 24 近4年sodiff新素材有限公司流动资产周转次数变化情况 55
  图表 25 近4年sodiff新素材有限公司总资产周转次数变化情况 55
  图表 26 近4年sodiff新素材有限公司销售毛利率变化情况 55
  图表 27 近4年sodiff新素材有限公司资产负债率变化情况 56
  图表 28 近4年sodiff新素材有限公司产权比率变化情况 56
  图表 29 近4年sodiff新素材有限公司固定资产周转次数情况 57
  图表 30 近4年memc公司流动资产周转次数变化情况 58
  图表 31 近4年memc公司总资产周转次数变化情况 58
  图表 32 近4年memc公司销售毛利率变化情况 59
  图表 33 近4年memc公司资产负债率变化情况 59
  图表 34 近4年memc公司产权比率变化情况 59
  图表 35 近4年memc公司固定资产周转次数情况 60
  图表 36 近4年air liquid公司流动资产周转次数变化情况 61
  图表 37 近4年air liquid公司总资产周转次数变化情况 62
  图表 38 近4年air liquid公司销售毛利率变化情况 62
  图表 39 近4年air liquid公司资产负债率变化情况 63
  图表 40 近4年air liquid公司产权比率变化情况 63
  图表 41 近4年air liquid公司固定资产周转次数情况 63
  图表 42 近4年日本电气工业公司流动资产周转次数变化情况 64
  图表 43 近4年日本电气工业公司总资产周转次数变化情况 65
  图表 44 近4年日本电气工业公司销售毛利率变化情况 65
  图表 45 近4年日本电气工业公司资产负债率变化情况 65
  图表 46 近4年日本电气工业公司产权比率变化情况 66
  图表 47 近4年日本电气工业公司固定资产周转次数情况 66
  图表 48 近4年大阳日酸公司流动资产周转次数变化情况 67
  图表 49 近4年大阳日酸公司总资产周转次数变化情况 67
  图表 50 近4年大阳日酸公司销售毛利率变化情况 68
  图表 51 近4年大阳日酸公司资产负债率变化情况 68
  图表 52 近4年大阳日酸公司产权比率变化情况 69
  图表 53 近4年大阳日酸公司固定资产周转次数情况 69
  图表 54 近4年evonik industries公司流动资产周转次数变化情况 70
  图表 55 近4年evonik industries公司总资产周转次数变化情况 70
  图表 56 近4年evonik industries公司销售毛利率变化情况 71
  图表 57 近4年evonik industries公司资产负债率变化情况 71
  图表 58 近4年evonik industries公司产权比率变化情况 72
  图表 59 近4年evonik industries公司固定资产周转次数情况 72
  图表 60 2016-2018年9月-高纯-生产分析 75
  图表 61 近4年浙江中宁硅业有限公司固定资产周转次数情况 76
  图表 62 近4年浙江中宁硅业有限公司固定资产周转次数变化情况 76
  图表 63 近4年浙江中宁硅业有限公司流动资产周转次数变化情况 76
  图表 64 近4年浙江中宁硅业有限公司流动资产周转次数变化情况 77
  图表 65 近4年浙江中宁硅业有限公司销售毛利率变化情况 77
  图表 66 近4年浙江中宁硅业有限公司销售毛利率变化情况 78
  图表 67 近4年浙江中宁硅业有限公司资产负债率变化情况 78
  图表 68 近4年浙江中宁硅业有限公司资产负债率变化情况 79
  图表 69 近4年浙江中宁硅业有限公司产权比率变化情况 79
  图表 70 近4年浙江中宁硅业有限公司产权比率变化情况 79
  图表 71 近4年浙江中宁硅业有限公司总资产周转次数变化情况 80
  图表 72 近4年浙江中宁硅业有限公司总资产周转次数变化情况 80
  图表 73 近4年浙江赛林硅业有限公司固定资产周转次数情况 82
  图表 74 近4年浙江赛林硅业有限公司固定资产周转次数变化情况 82
  图表 75 近4年浙江赛林硅业有限公司流动资产周转次数变化情况 83
  图表 76 近4年浙江赛林硅业有限公司流动资产周转次数变化情况 83
  图表 77 近4年浙江赛林硅业有限公司销售毛利率变化情况 84
  图表 78 近4年浙江赛林硅业有限公司销售毛利率变化情况 84
  图表 79 近4年浙江赛林硅业有限公司资产负债率变化情况 85
  图表 80 近4年浙江赛林硅业有限公司资产负债率变化情况 85
  图表 81 近4年浙江赛林硅业有限公司产权比率变化情况 86
  图表 82 近4年浙江赛林硅业有限公司产权比率变化情况 86
  图表 83 近4年浙江赛林硅业有限公司总资产周转次数变化情况 87
  图表 84 近4年浙江赛林硅业有限公司总资产周转次数变化情况 87
  图表 85 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司固定资产周转次数情况 89
  图表 86 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司固定资产周转次数变化情况 89
  图表 87 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司流动资产周转次数变化情况 90
  图表 88 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司流动资产周转次数变化情况 90
  图表 89 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司销售毛利率变化情况 91
  图表 90 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司销售毛利率变化情况 91
  图表 91 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司资产负债率变化情况 92
  图表 92 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司资产负债率变化情况 92
  图表 93 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司产权比率变化情况 93
  图表 94 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司产权比率变化情况 93
  图表 95 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司总资产周转次数变化情况 94
  图表 96 近4年滁州市硅谷特种气体有限公司总资产周转次数变化情况 94
  图表 97 近4年六九硅业有限公司固定资产周转次数情况 96
  图表 98 近4年六九硅业有限公司固定资产周转次数情况 96
  图表 99 近4年六九硅业有限公司流动资产周转次数变化情况 97
  图表 100 近4年六九硅业有限公司流动资产周转次数变化情况 97
  图表 101 近4年六九硅业有限公司销售毛利率变化情况 98
  图表 102 近4年六九硅业有限公司销售毛利率变化情况 98
  图表 103 近4年六九硅业有限公司资产负债率变化情况 99
  图表 104 近4年六九硅业有限公司资产负债率变化情况 99
  图表 105 近4年六九硅业有限公司产权比率变化情况 100
  图表 106 近4年六九硅业有限公司产权比率变化情况 100
  图表 107 近4年六九硅业有限公司总资产周转次数变化情况 101
  图表 108 近4年六九硅业有限公司总资产周转次数变化情况 101
  图表 109 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司固定资产周转次数情况 102
  图表 110 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司固定资产周转次数情况 103
  图表 111 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司流动资产周转次数变化情况 103
  图表 112 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司流动资产周转次数变化情况 103
  图表 113 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司销售毛利率变化情况 104
  图表 114 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司销售毛利率变化情况 104
  图表 115 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司资产负债率变化情况 105
  图表 116 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司资产负债率变化情况 105
  图表 117 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司产权比率变化情况 106
  图表 118 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司产权比率变化情况 106
  图表 119 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司总资产周转次数变化情况 107
  图表 120 近4年浙江金华美晶硅电子有限公司总资产周转次数变化情况 107
  图表 121 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司固定资产周转次数情况 109
  图表 122 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司固定资产周转次数情况 109
  图表 123 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司流动资产周转次数变化情况 110
  图表 124 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司流动资产周转次数变化情况 110
  图表 125 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司销售毛利率变化情况 111
  图表 126 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司销售毛利率变化情况 111
  图表 127 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司资产负债率变化情况 112
  图表 128 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司资产负债率变化情况 112
  图表 129 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司产权比率变化情况 113
  图表 130 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司产权比率变化情况 113
  图表 131 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司总资产周转次数变化情况 114
  图表 132 近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司总资产周转次数变化情况 114
  图表 133 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司固定资产周转次数情况 116
  图表 134 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司固定资产周转次数情况 116
  图表 135 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司流动资产周转次数变化情况 116
  图表 136 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司流动资产周转次数变化情况 117
  图表 137 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司销售毛利率变化情况 117
  图表 138 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司销售毛利率变化情况 118
  图表 139 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司资产负债率变化情况 118
  图表 140 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司资产负债率变化情况 119
  图表 141 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司产权比率变化情况 119
  图表 142 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司产权比率变化情况 119
  图表 143 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司总资产周转次数变化情况 120
  图表 144 近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司总资产周转次数变化情况 120
  图表 145 tic涂层的模型 123
  图表 146 cvd法的反应类型和所沉积材料 125
  图表 147 cvd采用的加热方式 126
  图表 148 开口体系cvd设备示意图 126
  图表 149 几种开口体系的反应器示意图 127
  图表 150 制备znse单晶设备示意图 128
  图表 151 非晶硅太阳能电池结构图 132
  图表 152 非晶硅柔性太阳能电池 133
  图表 153 大面积集成型叠层太阳能电池 135
  图表 154 子电池示意图 135
  图表 155 非晶硅太阳电池的制备流程 136
  图表 156 2018-2024年我国高纯-在电子信息产品中应用市场需求量的- 141
  图表 157 2016-2018年9月全球半导体材料销售分析 143
  图表 158 2016-2018年9月全球半导体材料销售分析 145
  图表 159 2016-2018年9月-半导体硅片出货量分析 145
  图表 160 2016-2018年9月我国集成电路行业增长情况 146
  图表 161 2017年我国集成电路出口情况 147
  图表 162 2017年集成电路产业内销产值增长情况 147
  图表 163 2016-2018年9月我国集成电路固定资产投资增长情况 148
  图表 164 2017年我国集成电路行业经济效益增长情况 148
  图表 165 2016-2018年9月我国集成电路晶圆制造业发展规模分析 153
  图表 166 不同薄膜太阳能电池研究应用水平 164
  图表 167 现有各种太阳能电池比较 171
  图表 168 -高世代面板线产能分布 184
  图表 169 -待投产高世代面板线 184
  图表 170 -新型显示产业政策 186
  图表 171 各省市新型显示产业政策 187
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